溅镀靶材是指用于溅射工艺的靶材。溅射工艺是一种常用的薄膜制备方法，适用于许多领域，如显示器，太阳能电池，集成电路等，溅射靶材决定了薄膜的成分和性质，因此溅镀靶材的合成方法非常重要。下面将介绍一些常见的溅镀靶材的合成方法。

1. 机械配制法：机械配制法是溅镀靶材合成的一种常见方法。该方法通常涉及将粉末材料放入球磨罐中，并加入合适的溶液进行球磨，以得到细小的粉末颗粒。然后将球磨得到的粉末材料通过筛网分离，得到所需的靶材。

2. 化学合成法：化学合成方法是制备溅镀靶材的另一种常见方法。这种方法是通过将适当的化学试剂在合适的条件下反应，形成所需的化合物，并通过适当的处理得到所需的靶材。例如，对于金属靶材，可以使用金属-有机化合物作为起始材料，在高温下热处理，使金属元素与有机部分发生反应，生成所需的金属化合物，然后通过煅烧等处理制备靶材。

3. 熔融法：熔融法是一种用于制备金属靶材的常见方法。在这种方法中，将所需的金属原料放入高温炉中熔化，然后在适当的条件下冷却和凝固，得到所需的靶材。对于一些高熔点的金属，如钨、铌等，通常需要采用熔融法进行制备。

4. 物理气相合成法：物理气相合成法是制备无机化合物溅镀靶材的常见方法之一。该方法通常涉及将金属原料放入高温的反应舱中，在适当的气氛中进行热分解或反应，得到所需的溅射材料。例如，对于氧化物靶材，可以采用金属有机化合物作为前驱体，在高温反应舱中加热分解，得到所需的氧化物材料。

5. 粉末冶金法：粉末冶金法是制备金属或合金溅镀靶材的常见方法之一。该方法通常涉及将金属或合金粉末与适当的粘结剂混合，并通过压制和烧结等工艺步骤，制备出所需的靶材。该方法具有成本低、材料利用率高等优点，广泛应用于溅射靶材的制备中。

6. 物理气相沉积法：物理气相沉积法是制备薄膜溅射靶材的一种特殊方法，也称为直接溅射法。在这种方法中，将所需的靶材直接放在溅射装置的阳极上，通过在高真空或惰性气氛中施加电场，将靶材溅射到衬底上形成薄膜。这种方法可以直接制备所需的靶材薄膜，具有操作简便、成本低等优点。

以上是一些常见的溅镀靶材的合成方法。根据不同的靶材要求和应用领域，可以选择适当的合成方法进行制备。当然，随着科学技术的不断发展和进步，可能还会出现新的合成方法和技术，以满足不同领域对溅镀靶材的需求。