未来溅镀靶材的发展方向是多方面的，主要包括材料的改进、工艺的改进、环境友好型靶材的开发以及多功能靶材的研究等。

首先，未来溅镀靶材的发展方向之一是材料的改进。当前，常用的溅射靶材主要有金属靶材和化合物靶材两种。金属靶材具有导电性好、溅射速率高等优点，但在高能量溅射和高温下容易熔化、气化或发生化学反应。而化合物靶材由于其成分相对复杂，通常具有较高的化学活性和熔点，能够承受更高的能量溅射和温度。未来的发展方向之一是研究开发具有更高能量密度、更好热膨胀性能和更低溅射沉积速率的靶材，以应对高功率、高效率溅射的需求。此外，还可以通过合金化、部分涂覆等方式改进溅射靶材的物理和化学性能，提高其耐用性和稳定性。

其次，未来溅镀靶材的发展方向还包括工艺的改进。溅射工艺是一种常用的薄膜制备工艺，具有膜层密实、结构均匀、沉积速率可调节等优点。然而，当前的溅射工艺仍存在一些问题，例如，沉积速率低、工艺复杂性高、能耗大等。未来的发展方向之一是改进溅射工艺，提高沉积速率、降低能耗以及简化工艺流程。例如，可以尝试开发新的靶材和溅射源结构，利用更高功率的激发源，优化气氛控制以及改进靶材和基底的几何形状等，以提高溅射的效率和质量，减少生产成本。

此外，未来溅镀靶材的发展方向还包括环境友好型靶材的开发。传统的溅射靶材中常含有一些有害物质，如铬、镍、铷等。这些有害物质在使用和废弃时对人体和环境都有一定的危害。未来的发展方向之一是研发环境友好型靶材，减少或替代有害物质的使用。例如，可以使用无毒、可再生的材料来制备溅射靶材，或者利用绿色制备技术降低有害物质的含量和释放。此外，还可以研究可回收的溅射靶材材料，以减少资源的消耗。

最后，未来溅镀靶材的发展方向还包括多功能靶材的研究。传统的溅射靶材通常只有单一的功能，如导电、光学、磁性等。而未来的发展方向之一是研究制备具有多种功能的靶材。例如，可以掺杂不同元素或化合物，或者通过纳米结构设计，使靶材具有多种性能，如超导性、磁性、光电催化等。这样的多功能靶材将有助于开发新的薄膜材料和器件，拓宽溅射工艺的应用领域。

综上所述，未来溅镀靶材的发展方向是材料的改进、工艺的改进、环境友好型靶材的开发以及多功能靶材的研究。这些发展方向将有助于提高溅射工艺的效率和质量，减少生产成本，降低对环境的污染，拓宽溅射工艺的应用领域。